無(wú)塵室的濕度控制

無(wú)塵室的濕度控制

　　無(wú)塵室是污染控制的基礎，控制空氣懸浮微粒濃度，從而達到適當的微粒潔凈度級別。

　　無(wú)塵室是指將一定空間范圍內之空氣中的微粒子、有害空氣、細菌等之污染物排除，并將室內之溫度、潔凈度、室內壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動(dòng)及照明、靜電控制在某一需求范圍內，而所給予特別設計之房間，被設計成特殊構造的封閉區域。隨著(zhù)生產(chǎn)行業(yè)越來(lái)越重視質(zhì)量檢查，對缺陷零容忍和嚴格的生產(chǎn)實(shí)踐標準，如今對無(wú)塵室的要求越來(lái)越高。

　　無(wú)塵室的主要應用領(lǐng)域是電子工業(yè)、制藥、航空航天、汽車(chē)、信息技術(shù)以及許多需要更嚴格制造條件的其他領(lǐng)域。無(wú)塵室的應用范圍：顯微鏡下的小組件、電子設備和儀器的制造；對藥物和食品的無(wú)菌性和純度的日益增長(cháng)的需求；用于醫學(xué)和生物應用的無(wú)菌環(huán)境。

　　無(wú)塵室的污染物可以來(lái)自各種各樣的來(lái)源：空氣（潔凈度是根據無(wú)塵室的種類(lèi)和灰塵的種類(lèi)來(lái)確定的）、水分、化學(xué)品、植物本身和工作人員。

　　其中濕度會(huì )帶來(lái)許多影響：

　　微生物生長(cháng)與腐蝕

　　工作臺表面的凝結導致生產(chǎn)計劃延誤和產(chǎn)品質(zhì)量低劣

　　導致產(chǎn)品腐敗

　　下面以半導體和制藥無(wú)塵室的高濕度為例做具體闡述：

　　在半導體無(wú)塵室里，微電路和微芯片制造需要被稱(chēng)為光阻的吸濕聚合物來(lái)屏蔽蝕刻過(guò)程的電路線(xiàn)。由于這種材料的吸濕性，它們會(huì )吸收許多水分，因此，微觀(guān)電路線(xiàn)被切斷或橋接，導致電路故障。此外，在半導體制造中，當晶片制造區域中的濕度水平波動(dòng)時(shí)，可能出現大量的問(wèn)題。烘烤時(shí)間通常會(huì )增加，整個(gè)過(guò)程變得更加難以控制。相對濕度超過(guò)35%就會(huì )使部件容易受到腐蝕。另外，當顯影溶劑噴到晶片上時(shí)，溶劑迅速蒸發(fā)，冷卻晶片時(shí)也足以冷凝空氣中的水分。這種額外的水分可以改變顯影劑的特性，并被吸收到半導體層上。這可能會(huì )導致半導體腫脹和進(jìn)一步的產(chǎn)品質(zhì)量問(wèn)題，需要額外的附加過(guò)程來(lái)補救。

　　在制藥無(wú)塵室的制藥設備中，高濕度會(huì )使細藥粉吸收水分，在藥片壓縮機上堵塞藥粉流動(dòng)。由于吸濕引起的粉末不一致會(huì )讓藥片不成型和藥效丟失。濕度的變化意味著(zhù)機器溫度和噴淋速率難以調節，導致熱損傷和濕氣侵入。此外，空氣工作管道中的濕度為細菌生長(cháng)創(chuàng )造條件，潮濕的地方還會(huì )引起其他污染。

　　一般來(lái)說(shuō)，無(wú)塵室的相對濕度應控制在35-40%之間，這也是工作要求。如此嚴格的濕度控制就需要一臺除濕機，而安詩(shī)曼工業(yè)除濕機就是你的首選。

　　安詩(shī)曼工業(yè)除濕機作為專(zhuān)業(yè)的除濕代表，在業(yè)內遙遙領(lǐng)先，如今已經(jīng)走進(jìn)了千家萬(wàn)戶(hù)。只有安詩(shī)曼除濕機，才能滿(mǎn)足無(wú)塵室的環(huán)境條件。無(wú)塵室的優(yōu)質(zhì)空氣，只有安詩(shī)曼除濕機能給你！