半導體電子廠(chǎng)加濕器,半導體電子廠(chǎng)加濕設備
半導體電子廠(chǎng)加濕器,半導體電子廠(chǎng)加濕設備新聞資訊:半導體(semiconductor),顧名思義是介于導體和絕緣體之間,用來(lái)做控制導電的一種材料,現如今在很多的數碼產(chǎn)品或電子設備中,像電腦、手機、電視機、收音機等,這些都是需要用到半導體元器件或產(chǎn)品的;由此可見(jiàn),半導體產(chǎn)品在當今數碼產(chǎn)品或電子設備中占有非常重要的作用。
隨著(zhù)半導體生產(chǎn)工藝的不斷發(fā)展,更精密、集成度更高是行業(yè)發(fā)展的趨勢。因此,其制造工藝除了需要機械設備本身的工藝水平達到生產(chǎn)要求以外,其所處的生產(chǎn)環(huán)境--無(wú)塵車(chē)間的各項指標也必須被嚴格地控制,這其中包括了:潔凈度、溫濕度、照度、氣流方向、振動(dòng)靜電、磁場(chǎng)以及有害氣體等各個(gè)方面。
其中,車(chē)間環(huán)境的溫濕度控制是一個(gè)重點(diǎn),其控制的效果直接影響著(zhù)生產(chǎn)效率和半導體產(chǎn)品的優(yōu)良率。目前,半導體無(wú)塵車(chē)間對環(huán)境溫濕度的控制范圍通常為:溫度22+/-2℃,濕度45+/-5%RH之間。有別于其他的恒溫恒濕環(huán)境系統的要求,由于半導體電子產(chǎn)品對靜電、粉塵等的敏感性對其品質(zhì)的影響;
不管是什么半導體電子廠(chǎng)在制作各種半導體元器件或產(chǎn)品的過(guò)程中,其生產(chǎn)車(chē)間內必定是放了很多的的半導體元器件,在這些存放半導體元器件的環(huán)境里面,通常都會(huì )比較干燥,在一個(gè)干燥的環(huán)境下是極易導致靜電增強、粉塵增多等問(wèn)題,這些對與半導體電子廠(chǎng)的正常生產(chǎn)和產(chǎn)品品質(zhì)都是非常不利的,而且此時(shí)車(chē)間內的工作人員也會(huì )感到皮膚干燥、開(kāi)裂、呼吸不適和情緒不適,這將影響他們的工作,特別是在冬季干燥的季節是經(jīng)常會(huì )出現的。
為此,半導體電子廠(chǎng)一般在這種情況之下都是需要加濕的,加濕的作用主要是除靜電,加濕器則是一個(gè)很好的加濕除靜電設備;大部分電子廠(chǎng)加濕都是用超聲波加濕器,也可以用高壓微霧加濕器,也可以用電極加濕器;但半導體電子廠(chǎng)一般都是無(wú)塵車(chē)間,推薦使用無(wú)霧型潔凈濕膜加濕器來(lái)進(jìn)行潔凈加濕;避免靜電的產(chǎn)生,就可以很好的避免對半導體產(chǎn)生帶來(lái)不利的影響,也可以避免因為靜電導致半導體的性能出現任何的小問(wèn)題。
安詩(shī)曼QS-9半導體電子廠(chǎng)加濕器&QS系列潔凈濕膜加濕器是利用水的蒸發(fā)性,將水通過(guò)水泵和分配器不斷送到濕膜上部,在重力作用下水通過(guò)濕膜回到主水箱形成循環(huán),空氣通過(guò)濕膜時(shí),與濕膜充分接觸,過(guò)濾塵埃等顆粒物,使空氣凈化,濕度增加,從而達到加濕,凈化,除塵的目的,一般的場(chǎng)所下都適合使用。
安詩(shī)曼QS-9半導體電子廠(chǎng)加濕器&QS系列潔凈濕膜加濕器是各種對濕度、潔凈度等有較高要求場(chǎng)所加濕的不二之選,廣泛用于:電話(huà)通訊程控、交換、傳輸機房、計算機房、印刷制版車(chē)間、電子生產(chǎn)車(chē)間、精密機械加工車(chē)產(chǎn)間、精密儀器儀表室、會(huì )議室、檔案館、美術(shù)館、圖書(shū)館、別墅區。
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安詩(shī)曼QS-9半導體電子廠(chǎng)加濕器&QS系列潔凈濕膜加濕器技術(shù)參數:
名稱(chēng)
加濕量
換風(fēng)量
適用空間
電源電壓
噪音
輸入功率
霧粒直徑
凈重
外型尺寸
型號
Kg/h
M3/h
M3
V/Hz
DB
W
μm
Kg
CM
QS-3
≥3
1000
150
220/50
30
130
≤5
25
60×40×118
QS-6
≥6
1300
300
220/50
35
220
≤5
30
60×40×120
QS-9
≥9
2400
450
220/50
40
350
≤5
36
78×35×172
QS-12
≥12
3500
600
220/50
60
450
≤5
47
78×36×174
QS-15
≥15
3500
800
220/50
60
580
≤5
56
120×50×180
◎計算公式:H=體積×P×溫度系數×(X2-X1)÷1000×換氣次數×損耗系數公式說(shuō)明:H-所需加濕量(kg/h)、P-空氣密度(kg/m3)=1.2、V-體積(加濕場(chǎng)所面積×高度)、1000-g換算為Kg、損耗系數-1.2(包括人員,環(huán)境的密閉效果和材料等因素)、換氣次數-通常為2-3次、溫度數系-1.2(冬天往上加,夏天就按照1.2或往下減)、X2-X1-每立方米空氣的水分重量即絕對濕度(X2為加濕后,X1為加濕前);
◎濕膜加濕器的加濕量主要取決于濕膜的截面積,風(fēng)量的大小。其次要和房間內的溫度有關(guān),水質(zhì)的好壞,房間內服務(wù)器散發(fā)的熱量等等的客觀(guān)因素有關(guān)。判斷濕膜加濕機的加濕量大小,可以通過(guò)每小時(shí)加濕水的重量來(lái)判斷。查看更多半導體電子廠(chǎng)加濕器,半導體電子廠(chǎng)加濕設備的詳細信息盡在:安詩(shī)曼除濕機
綜上所述:在半導體器件生產(chǎn)車(chē)間,由于塵埃吸附在芯片上,尤其是超大規模集成電路的成品率會(huì )大大下降。生產(chǎn)車(chē)間操作人員都穿潔凈工作服,若人體帶靜電,則極易吸附塵埃、污物等,若這些塵埃、污物被帶到操作現場(chǎng)的話(huà),將影響產(chǎn)品質(zhì)量,惡化產(chǎn)品性能、大大降低成品率。如果吸附的灰塵粒子的半徑大于線(xiàn)條寬度約時(shí),薄膜厚度在下時(shí),則最容易使半導體元器件或產(chǎn)品報廢。
為此,ESD也是半導體制造環(huán)境控制的一項重要內容,靜電釋放可能對產(chǎn)品和生產(chǎn)設備造成損害,還可能引起硅片表面塵粒吸附,影響產(chǎn)品的良率。靜電消除要在潔凈室設計上進(jìn)行總體考慮,除了設備接地(包括潔凈墻板和高架地板,辦公設備等)外,還要采用防靜電墻板、高架地板,人員要求穿著(zhù)防靜電的潔凈服、潔凈鞋。對存在ESD危害風(fēng)險的設備和生產(chǎn)區域應安裝加濕器來(lái)進(jìn)行加濕。
半導體電子廠(chǎng)要想在一年四季不同氣候條下都能夠正常生產(chǎn)和保證產(chǎn)品品質(zhì)的穩定,其生產(chǎn)車(chē)間內部就必須維持一個(gè)穩定的環(huán)境,特別是要對車(chē)間生產(chǎn)環(huán)境中的溫度、濕度、空氣潔凈度、氣流組織,壓力平衡等多個(gè)參數進(jìn)行嚴格的控制。在濕度方面,選用安詩(shī)曼加濕器來(lái)進(jìn)行有效調節的好處不僅僅表現在預防和消除靜電這個(gè)方面,還在降塵和除塵方面有著(zhù)非常不錯的表現。以上關(guān)于半導體電子廠(chǎng)加濕器,半導體電子廠(chǎng)加濕設備的全部新聞資訊報道是安詩(shī)曼提供的,僅供大家參考!
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