潔凈室中工業(yè)除濕機的濕度控制

潔凈室中工業(yè)除濕機的濕度控制

　　潔凈室的發(fā)展與現代工業(yè)、尖端技術(shù)密切聯(lián)系在一起。由于精密機械工業(yè)（如陀螺儀、微型軸承等加工）、半導體工業(yè)（如大規模集成電路生產(chǎn)）等對環(huán)境的要求，促進(jìn)了潔凈室技術(shù)的發(fā)展。

　　潔凈室的濕度控制

　　潔凈室是控制污染的工作場(chǎng)所。

　　據稱(chēng)潔凈室為環(huán)境污染物（如塵埃，氣載微生物，氣溶膠顆粒和化學(xué)蒸氣）提供了一個(gè)有利環(huán)境（用于研究，開(kāi)發(fā)和制造設備或工藝）。

　　隨著(zhù)對質(zhì)量檢測和控制的日益重視，對缺陷的零容忍和嚴格的生產(chǎn)實(shí)踐，潔凈室的需求增加了多方面。潔凈室現在被設計成特殊構造的封閉區域，對空氣中的顆粒物，溫度，濕度，氣壓流動(dòng)模式，空氣運動(dòng)，振動(dòng)，噪音和有生命的生物體進(jìn)行環(huán)境控制。

　　潔凈室的主要應用領(lǐng)域是電子工業(yè)，制藥，航空航天，汽車(chē)，信息技術(shù)和其他需要更嚴格制造條件的其他領(lǐng)域。潔凈室的應用范圍廣泛，從制造微型小組件，電子設備和儀器到日益需要更多的藥品，食品和無(wú)菌無(wú)菌環(huán)境中的醫療和生物應用的無(wú)菌性和純度。

　　污染物可以來(lái)自各種各樣的來(lái)源：空氣（其清潔程度根據潔凈室的類(lèi)別和灰塵等級來(lái)定義），水，化學(xué)物質(zhì)，物理植物本身和人員。

　　不受控濕度的影響

　　微生物生長(cháng)和腐蝕

　　工作表面上的冷凝導致計劃延遲和產(chǎn)品質(zhì)量較差

　　污染導致產(chǎn)品變質(zhì)

　　不受控濕度的原因

　　半導體和制藥無(wú)塵室高濕度的例子

　　半導體潔凈室

　　微電路和微芯片制造需要稱(chēng)為光刻膠的吸濕聚合物來(lái)掩蓋用于蝕刻工藝的電路線(xiàn)。由于它們的吸濕性，它們吸收水分，因此微觀(guān)電路線(xiàn)被切斷或橋接，導致電路故障。另外，在半導體制造中，當晶片制造區域中的濕度水平波動(dòng)時(shí)，會(huì )出現許多問(wèn)題。烘烤時(shí)間通常會(huì )增加，整個(gè)過(guò)程通常變得更難以控制。高于35％RH的濕度會(huì )使組件容易受到腐蝕。此外，隨著(zhù)顯影劑溶劑噴灑到晶片上，溶劑迅速蒸發(fā)，冷卻晶片足以冷凝空氣中的水分。這種額外的水可以改變顯影劑特性并被吸收到半導體層上。這可能會(huì )導致膨脹和產(chǎn)品質(zhì)量問(wèn)題，從而需要額外的過(guò)程控制。

　　制藥潔凈室

　　在制藥生產(chǎn)設施中，高濕度會(huì )使細粉吸收水分，阻塞粉末進(jìn)入壓片機。由吸濕引起的粉末不一致導致崩潰的片劑和堵塞的片劑模具。濕度變化意味著(zhù)難以調整床溫和噴霧速率，導致熱損傷和濕氣侵入。此外，空氣管道中的濕度會(huì )造成潮濕的地方，細菌菌落生長(cháng)并引起過(guò)程污染。

　　一般建議

　　干凈室內的相對濕度應控制在35-40％RH（這是工藝要求的一個(gè)函數），用于全年運行。在低于20°C（70°F）的溫度下，這些RH水平通常保持在±2％RH的窄帶內。

　　工業(yè)除濕機解決方案

　　工業(yè)除濕機可將露點(diǎn)始終保持在非常低的水平，如（-）60°C（空氣濕度的歧管減少），遠遠超過(guò)標準HVAC制冷系統所能達到的水平。